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美國又加大圍剿力度,中國光刻機(jī)何時(shí)突圍?

財(cái)通社財(cái)通社2023-01-30 10:44 數(shù)字產(chǎn)業(yè)
國產(chǎn)半導(dǎo)體工業(yè)可以說已到了危及存亡之刻,該如何突圍?一位從業(yè)20年的半導(dǎo)體老兵講出了他說看見的行業(yè)實(shí)情及思考。



數(shù)年前,鐵幕橫亙?cè)跂|、西方之間。現(xiàn)在,硅幕(Silicon Curtain)正在落下。

國產(chǎn)半導(dǎo)體工業(yè)可以說已到了危及存亡之刻,該如何突圍?一位從業(yè)20年的半導(dǎo)體老兵講出了他說看見的行業(yè)實(shí)情及思考。

1

美國全力圍剿中國光刻機(jī)



2023年1月28日,諸多企業(yè)開工大吉的喜悅被攪黃了。美國、荷蘭與日本在經(jīng)過數(shù)月的談判后,最終就共同限制向中國出口半導(dǎo)體設(shè)備達(dá)成共識(shí),它們將聯(lián)手阻止中國獲取發(fā)展先進(jìn)芯片、量子計(jì)算、人工智能等所需的技術(shù)。

在繼續(xù)禁絕向中國企業(yè)出售EUV光刻機(jī)的基礎(chǔ)上,新的聯(lián)盟擴(kuò)大了管制范圍。媒體援引消息人士的話稱,中國發(fā)展先進(jìn)半導(dǎo)體所需的技術(shù)和設(shè)備,都會(huì)被加入到禁售清單中,其中就包括DUV浸潤式光刻機(jī)

荷蘭阿斯麥(ASML)、日本尼康(Nikon)和東京威力科創(chuàng)(TEL)等半導(dǎo)體設(shè)備巨頭的對(duì)華出口,將被迫執(zhí)行新的標(biāo)準(zhǔn)。

自2022年10月發(fā)布《針對(duì)先進(jìn)計(jì)算和半導(dǎo)體制造的管制措施》后,美國就積極地游說日本、歐洲等盟友,聯(lián)手從設(shè)備、技術(shù)、人才等環(huán)節(jié),對(duì)中國進(jìn)行全面封堵。新聯(lián)盟形成后,美國的管制措施有可能會(huì)變成整個(gè)聯(lián)盟的法則。

按照三方會(huì)談透露出來的內(nèi)容,日本、荷蘭各自在國內(nèi)完成立法后,新的協(xié)議才會(huì)生效,這可能需要幾個(gè)月的時(shí)間。歐盟官員對(duì)這次的談判結(jié)果給予了支持。中國專家言之鑿鑿三國不會(huì)結(jié)盟的說法,還可以成立一段時(shí)間。

鑒于此事可能產(chǎn)生的后果,即便協(xié)議生效后,各方也不會(huì)公布管制措施的內(nèi)容,其重心將落在具體的執(zhí)行層面。日本政府有官員預(yù)言,這樣的合作百分之百會(huì)遭到報(bào)復(fù),在當(dāng)?shù)亟?jīng)營的日本企業(yè)會(huì)因此遭受沖擊。

中國半導(dǎo)體供應(yīng)的現(xiàn)實(shí)擊穿了曾經(jīng)的虛幻,這讓中國智能汽車的發(fā)展面臨新的選擇。在智能化的道路上,自動(dòng)駕駛的前景會(huì)變得越來越暗淡。眾多的中國自動(dòng)駕駛企業(yè)及其整車制造商,即便有能力設(shè)計(jì)出高端芯片,他們卻繞不開制造環(huán)節(jié)的短板。中國大陸的代工廠不具備臺(tái)積電的能力,無法制造出先進(jìn)制程的芯片。能為這些企業(yè)代工的臺(tái)積電、三星等受制于美國的管制措施,會(huì)變得更謹(jǐn)慎。壁仞科技的遭遇,是事情的一個(gè)側(cè)面。

隨著時(shí)間的推移,英偉達(dá)A100等算力芯片的停供已經(jīng)進(jìn)入倒計(jì)時(shí)。雖然英偉達(dá)推出了A800作為替代品,但無法滿足自動(dòng)駕駛進(jìn)階的需求。進(jìn)入到L4級(jí)自動(dòng)駕駛后,中國市場(chǎng)的算力芯片需求與供應(yīng)會(huì)出現(xiàn)明顯的脫節(jié)。中國本土的算力芯片制造商,在美國的管制措施解除之前,可以施展的空間已經(jīng)非常有限。對(duì)于中國自動(dòng)駕駛而言,L2及L2+級(jí)已經(jīng)是最現(xiàn)實(shí)的市場(chǎng)了。

中國自動(dòng)駕駛所面臨的局面,只是各方圍剿中國半導(dǎo)體的一個(gè)小縮影。數(shù)年前,鐵幕橫亙?cè)跂|、西方之間。現(xiàn)在,硅幕(Silicon Curtain)正在落下。

2

我國光刻機(jī)發(fā)展的怎么樣了?



光刻機(jī)一直是半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠,如今成為美國圍剿中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的殺手锏。

在此之前,一位20年半導(dǎo)體老兵就就很驚醒地指出,荷蘭與米國這場(chǎng)光刻機(jī)的談判,將是國內(nèi)芯片行業(yè)生與死的分水嶺。可能大家都沒意識(shí)到這次談判的嚴(yán)重性。

以美bis新規(guī)定來看,涉及finfet也就是16nm以下工藝的全部禁止對(duì)中銷售,工藝能達(dá)到7nm的浸沒式duv肯定是不能賣給中,所以asml自己的預(yù)估浸沒式duv的高低標(biāo)的銷量區(qū)別不大,這也肯定不是美荷談判重點(diǎn)。

這次美荷談判的重點(diǎn)就是193nm ArF dry 光刻機(jī),如果這類型設(shè)備也不能賣,對(duì)asml來說那差距將達(dá)到一百臺(tái),40億美金左右的銷售額。

能賣給中,2025年該設(shè)備能賣290臺(tái),如果被限制那就是低標(biāo)只能賣給非中客戶190臺(tái),這就是這一次美荷談判的重點(diǎn)。我們要知道這類型光刻機(jī)對(duì)應(yīng)的工藝是65~110nm。

美國想游說盟友,禁止中國110nm以下的所有工藝,而荷蘭則希望從45nm開始限制即可,而這對(duì)國內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)的影響也是至關(guān)重要的,28~110幾乎是國內(nèi)芯片制造需求最大的一個(gè)工藝范圍。如果荷蘭同意斷供干式duv那對(duì)國內(nèi)芯片行業(yè)來說將是毀滅性的打擊

當(dāng)然荷蘭如果被米國拿下,日本的nikon勢(shì)必也是比照辦理,而這只能靜待結(jié)果了。

1月29日消息,昨日外媒報(bào)道稱,美國拜登政府在當(dāng)?shù)貢r(shí)間本周五于華盛頓結(jié)束的談判中,已經(jīng)成功與荷蘭和日本達(dá)成協(xié)議,將限制對(duì)華出口先進(jìn)的芯片制造設(shè)備,其中就包括ASML Holding NV、Nikon Corp.和Tokyo Electron Ltd.等廠商的產(chǎn)品。

如果荷蘭與日本最終同意斷供193nm  ArF干式duv光刻機(jī),那我們?cè)撛趺崔k,國產(chǎn)光刻機(jī)現(xiàn)在到底如何了?

10月7號(hào),米國BIS的制裁新規(guī)下來以后,行業(yè)至今雞飛狗跳,全面亂套,不過這也是一面照妖鏡,退潮時(shí)就能知道誰在裸泳。這幾年資本市場(chǎng)大炒特炒的國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備商們,檢驗(yàn)?zāi)銈冋嬲碌臅r(shí)刻到了。

在半導(dǎo)體老兵看來,國產(chǎn)光刻機(jī)的現(xiàn)狀如同被一塊遮羞布罩著,真實(shí)情況觸目驚心。

目前國產(chǎn)光刻機(jī)的相關(guān)訊息都是對(duì)米國單向透明的。我們國產(chǎn)光刻機(jī)里面的零配件大部分都得進(jìn)口,這些零配件同樣以美日為主。

幾年前smee那臺(tái)號(hào)稱90nm的ssx600通過02專項(xiàng)驗(yàn)收合格,然后這一大幫人歡欣鼓舞媒體大書特書,緊接著這群人立馬訂定下一個(gè)更先進(jìn)的目標(biāo),甚至一次跨越兩代,直接攻關(guān)193nmArF準(zhǔn)分子激光浸潤式光刻機(jī),02專項(xiàng)風(fēng)風(fēng)火火大躍進(jìn)攻關(guān),形勢(shì)一片大好。

然而事實(shí)是那臺(tái)ssx600,也就是248nmKrF光刻機(jī)(工藝是在0.13um以上)風(fēng)風(fēng)火火的把所有utility接上,除了認(rèn)證那會(huì)開機(jī)跑了起來,至始至終躺在那。

這通過驗(yàn)收的所謂光刻機(jī)根本無法在量產(chǎn)線上跑,也從來沒有跑過!而你們現(xiàn)在正大躍進(jìn)式的想攻克下兩代193nm  ArFi 也就是媒體所謂的28nm光刻機(jī),這不是天大的笑話嗎?130nm都沒正兒八經(jīng)的跑過產(chǎn)線,130nm你都做不明白,竟然妄想去搞28nm?其實(shí)193nm ArFi搞出來是能做到7nm的。

一個(gè)令人痛心的現(xiàn)象是,半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)備真正在生產(chǎn)線跑,是全世界無數(shù)頂尖工程師,數(shù)十年不斷優(yōu)化來的,而我們一臺(tái)設(shè)備驗(yàn)收了,就再也沒人管。

除了光刻機(jī)外,etch蝕刻設(shè)備、沉積與光刻并列門檻最高、金額最高、難度最大的的三個(gè)種類,一般來說蝕刻設(shè)備都是fab投資最大的,工藝在5nm以下的fab,因?yàn)槎际鞘褂胑uv,光刻才超越了蝕刻。

而且蝕刻在memory占有越來越重要的角色,尤其是在nand,越高層數(shù)就需要寬深比越高的蝕刻技術(shù),這完全得仰賴設(shè)備廠家。目前做到最好的是lam能在100:1以上,amat也有同性能產(chǎn)品,國內(nèi)的中微號(hào)稱今年能有40::1的高寬深比的設(shè)備,但這設(shè)備,可以肯定出來是能出來,但沒法用。

圖片

某廠etch設(shè)備 list

從上圖我們可以看出,dry etch 分為icp、ccp,這兩小類,每類又分了十多種設(shè)備,咱們可以從圖中看到中微在某fab的ccp拿下了1/3,但在icp則全軍覆沒。

ccp只是刻掩膜跟metal,與icp那些刻在si上的完全是兩碼事,也就是說即便中微什么成功打入臺(tái)積電7nm的fab也只是做最簡(jiǎn)單的那一部分。

而我們從圖中可以看出,dry etch門檻最高的各種icp,中微一臺(tái)也沒有,幾乎被lam給壟斷,amat跟tel這世界etch的老二跟老三也只有稀稀拉拉幾臺(tái),而中微連他的強(qiáng)項(xiàng)ccp也只是占1/3,而且還都是ccp里面最容易的那部分。

半導(dǎo)體老兵以此推算中微打通drt etch全部環(huán)節(jié),能生產(chǎn)出合格良率的28nm芯片,最快最快是6年。

試問2030年全世界都生產(chǎn)14nm了,我們還在生產(chǎn)28nm,要這玩意有多大作用?真實(shí)的情況跟大家想的或者主管行業(yè)那幫人說的根本不一樣。

3

中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)該怎么辦?

現(xiàn)在如此危機(jī)之時(shí),中國半導(dǎo)體行業(yè)不能再這樣下去,首先必須要把問題全部掀開來,盡管滿目瘡痍,瘡疤都沒怕疼而沒勇氣去揭,那如何治療?

從14年大基金成立以來,我們一直高喊的國產(chǎn),取代外企,解決卡脖子問題,快十年了,真正解決的卡脖子問題有幾個(gè)?行業(yè)里整天好消息滿天飛,飛了快十年了,市場(chǎng)一片期待,所有人信心滿滿,連小將們都高喊你米國越制裁越好,我們只會(huì)更快造出來,我們不需要任何協(xié)助,自己的全國產(chǎn)設(shè)備很快就能橫空出世。

而今這些設(shè)備在哪呢?真實(shí)的情況是,此時(shí)此刻,我們芯片生產(chǎn)線的國產(chǎn)化率只有可憐的15%左右,今時(shí)今日

想在五六年完全補(bǔ)齊剩下的85%,從任何角度來看都是不切實(shí)際,違反科學(xué)及常識(shí)的。

現(xiàn)在我們的芯片產(chǎn)業(yè)已經(jīng)退無可退,當(dāng)務(wù)之急,就是在量產(chǎn)的fab里,所有設(shè)備back  to back的調(diào)適,真正調(diào)適出一條完整實(shí)實(shí)在在的《量產(chǎn)線》,不是以前那種實(shí)驗(yàn)線,更不是一堆設(shè)備商各自為政,上下道工藝根本接不上,各說各話的吹牛皮。

對(duì)于目前到中國半導(dǎo)體行業(yè),半導(dǎo)體老兵以為,之前的積極進(jìn)取有作用,但韜光養(yǎng)晦亦有大用,任何事并不是只有進(jìn)攻,啥時(shí)候進(jìn)攻啥時(shí)候防守,攻防有序才是正道。





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